Ni掺杂AlN铁磁性的第一性原理研究 Ni掺杂AlN铁磁性的第一性原理研究

Ni掺杂AlN铁磁性的第一性原理研究

  • 期刊名字:华南师范大学学报(自然科学版)
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  • 论文作者:曾坤,郭志友,王雨田,赵华雄,林竹
  • 作者单位:华南师范大学光电子材料与技术研究所
  • 更新时间:2022-06-12
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论文简介

采用密度泛函理论(DFT)的总体能量的平面波超软赝势方法,结合广义梯度近似(GGA),对Ni掺杂AlN32原子超原胞体系分别进行了几何结构优化,计算和分析了Ni掺杂AlN的结构、能带、电子态密度、集居数及体系总能. 结果表明,Ni掺杂AlN会产生自旋极化,能带结构显示6.25%Ni掺杂AlN呈现半金属性质,有铁磁性,铁磁性可以用Ni和相邻的N之间的p-d杂化机制来解释. Ni掺杂的AlN应该是一种有应用前景的稀磁半导体DMS.

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