精神分裂症患者及其未患病父母的脑皮层影像学研究

目的：探讨精神分裂症患者及其未患病父母脑皮层形态的改变。方法纳入精神分裂症患者33例及其未患病生物学父母63名，招募对照组1（30名）与对照组2（28名）分别与患者组和父母组对照。采集高分辨率结构头颅磁共振成像数据，通过FreeSurfer软件计算脑皮层体积、厚度、表面积、曲率及数个皮层下结构体积，分别比较患者组和父母组与各自对照组间的差异。结果患者组左半球前扣带回中部、枕中回、岛下沟、枕颞沟外侧，右半球枕颞回外侧、颞中回、岛上沟、颞下沟和双侧半球后扣带回背侧、颞上沟脑区皮层厚度较对照组1下降（均P＜6.0×10-4，经Bonferroni校正）；协方差分析示父母组与对照组2相比，左半球近中央沟、额下回三角区、额中回、枕极、脑岛环状沟上段、额下沟、枕中及月状沟、眶沟外侧，以及右半球枕中回、外侧裂后段、中央前回下部脑区皮层厚度下降（均P6.0×10-4）。结论皮层厚度可作为精神分裂症患者皮层形态改变的特异性指标，并存在一定的遗传性。