工具：赝电容k1Tool-v2.6解决拟合交叉问题

感谢日本九州大学的郝博士提问：赝电容拟合时怎样避免交叉线？谭编研究了CV曲线的特征，并将工具升级到v2.6完美解决交叉问题。非常感谢郝博士的贡献和交流，促使了k1Tool的升级。

相信有不少同学还在为那些交叉的赝电容曲线而烦恼。这些交叉线往往会使赝电容的贡献率大打折扣。不少同学坐不住了，赶紧将那些被你嫌弃的数据，利用k1Tool V2.6拟合一下吧！

图1

理想状态下，在极慢的CV扫描速度下，电极过程动力学越趋于可逆的平衡态。但是实际状况下，多种因素可能导致不同扫描速度下，某些局部区域电流随扫描速度并不满足线性关系（图1(a)）。

CV曲线出现线性“塌陷”，拟合优度（Goodness of Fit）（确定系数）R^2并不高（例如图1(c)中绝大多数点的R^2低于0.9），当然我们可以通过k1Tool V2.6丢弃这些局部异常区域，得到图1(d)的结果。

1.k1Tool V2.6的使用方法

图2k1Tool V2.6的使用方法

该工具的链接：

http://journal.scnu.edu.cn/editortan/cc/v2.6/

二维码：

2. 赝电容曲线的绘制方法

选中我们需要绘制的某个扫速数据（例如1.5mV/s的E、i和k1v），点击下方的模板库按钮，找到谭编之前设计的赝电容模板，绘制出草图。这个草图很怪，因为我们拟合的曲线是断断续续的（因为丢弃了R^2低于0.95的数据）。此时，双击拟合曲线，去除线下填充，然后点击断续的拟合曲线，选择菜单“Analysis-Mathematics-Trace interpolation”插值外推的方法重建一条完整的曲线，在弹窗中直接按确定即可。

图3断续的赝电容曲线绘制方法

最终得到如下曲线

这里用到【190903A】赝电容模板，请转发本文到朋友圈，发截图给谭编免费领取该模板，或者打赏哦。